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D0531、溅镀工艺技术、真空溅镀生产方法及设备应用
作者:jnxhcy 来源:本站原创 点击:10401 更新:2016-9-2 21:17:55

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序号 专利号 名称
1 CN2015109171132 一种具有复合靶材的卷对卷溅镀制程与其制成品
2 CN2015106821247 芯片溅镀治具及溅镀方法
3 CN2015106729274 一种溅镀设备的靶材更换装置及溅镀设备
4 CN2015105226259 一种改进的真空溅镀表面处理方法
5 CN2015800012092 溅镀靶材
6 CN2015100933003 钪铝合金溅镀目标
7 CN2015100707765 电磁控溅镀阴极
8 CN2014108410748 一种真空不连续溅镀工艺
9 CN2014108410714 一种真空不连续溅镀方法
10 CN2014800698736 W-Ni溅镀靶
11 CN2014107661043 一种降低金属层溅镀工艺中杂质微粒颗数的方法
12 CN2014107202625 一种真空离子溅镀靶材装置
13 CN2014800597275 溅镀靶及其制造方法
14 CN2014104748971 一种用于金属溅镀机铝制程沉积腔的夹具环
15 CN201410422027X 溅镀设备以及保护膜的形成方法
16 CN2014103669370 智能数字温控过热保护溅镀机
17 CN2014103092024 一种溅镀装置及溅镀方法
18 CN2014102965663 一种新型磁控轴瓦溅镀机
19 CN2014102146258 用于溅射腔室的靶材组件、溅射装置以及溅镀方法
20 CN2014101928578 p型氮化镓为主的三族氮化物半导体薄膜的薄膜溅镀过程
21 CN2014101784603 真皮射频式指纹识别器金属外壳溅镀封装工艺
22 CN2014800210262 光吸收层及含该层层系统、层系统制造方法及适用溅镀靶
23 CN201480033152X In-Ce-O系溅镀靶材及其制造方法
24 CN2014101072562 一种高真空磁控轴瓦溅镀机
25 CN2014100683732 一种真空磁控轴瓦减磨合金层溅镀工艺
26 CN2014100087664 天线溅镀在射频模组表面上工艺
27 CN2013105711240 溅镀靶、透明导电膜及其制造方法,以及触控面板
28 CN2013104987408 铜硅合金溅镀靶材及铜硅合金记录层
29 CN2013104803141 一种导电薄膜的溅镀成型装置
30 CN2013104639560 溅镀磁控管和动态影响磁场的方法
31 CN2013104626927 移动式细胞格磁控溅镀靶
32 CN2013800623824 溅镀装置及基板处理装置
33 CN2013101731423 溅镀式的触控面板架桥结构及其制作方法
34 CN2013101330019 溅镀设备及溅镀方法
35 CN2013800048803 溅镀靶
36 CN2012105517265 具有溅镀薄膜的塑胶件的制造方法
37 CN2012105147501 铝钛合金溅镀靶材及其制作方法
38 CN2012104578952 用于溅镀工艺的夹具与溅镀半导体封装件的方法
39 CN2012104044118 溅镀靶材及可写录光记录媒体
40 CN2012103842290 硼锌氧化物溅镀靶材及其应用
41 CN201210377232X 连续式水平溅镀机传输机构
42 CN2012800619985 溅镀装置
43 CN201280071339X 溅镀装置
44 CN2012800611767 溅镀装置、靶材及护罩
45 CN201210272078X 溅镀机及其磁铁的控制方法
46 CN2012102687531 EMI专用真空溅镀治具制作工艺
47 CN2012102290527 溅镀机
48 CN2012800750416 用以涂布溅镀材料层于基板上的装置及沉积系统
49 CN2012800703472 利用预稳定等离子体的工艺的溅镀方法
50 CN2012101644609 一种透明非晶态氧化物半导体溅镀靶材
51 CN2012101279003 用于电容式触控面板载体玻璃定点溅镀导电材料的电路
52 CN2012101278354 一种对触控面板载体玻璃进行定点溅镀导电材料的装置
53 CN201210122427X 真空溅镀装置及其使用方法
54 CN2012101153912 反应气体溅镀装置
55 CN2012800185365 氧化物型半导体材料及溅镀靶
56 CN201210096164X 用于电容式触控屏生产的磁控溅镀方法
57 CN201280006660X 氧化物型半导体材料及溅镀靶
58 CN201210043764X 光伏玻璃溅镀设备人机介面自动排气系统
59 CN2012100365726 溅镀设备人机介面自动抽气系统
60 CN2012100196520 一种单腔多靶极溅镀程式控制方式
61 CN201210010651X 一种磁控溅镀腔室腔壁防镀遮板装置
62 CN2012100009420 一种光伏玻璃溅镀的光源加热器反射板冷却装置
63 CN2011104559478 一种光伏玻璃溅镀靶极自循环冷却装置
64 CN2011104512096 具自转及公转复合式真空溅镀设备
65 CN2011104465019 管形溅镀靶材检测机构
66 CN2011104420465 溅镀靶材检测机构
67 CN2011104028746 连续式溅镀设备
68 CN2011103338726 具有警示功能的溅镀靶材
69 CN2011103326038 对RF设备进行镀金属的方法以及用于该方法的溅镀装置
70 CN2011103260399 用于提高档案光盘防水抗菌性能的溅镀膜及其制备方法
71 CN2011103082870 一种新型抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法
72 CN201110287517X 一种光伏玻璃薄膜溅镀的简易靶材更换台车装置
73 CN2011102825645 一种光伏玻璃溅镀承载盘传送装置
74 CN2011102825630 一种光伏玻璃溅镀无效边遮蔽装置
75 CN2011102294082 以预合金靶进行一次溅镀方式制作半导体化合物薄膜层方法
76 CN201180040721X 溅镀标靶馈入系统
77 CN2011102214158 溅镀装置
78 CN2011800052960 分割溅镀靶及其制造方法
79 CN2011800052975 分割溅镀靶及其制造方法
80 CN2011800052956 分割溅镀靶及其制造方法
81 CN2011800320682 使用高功率脉冲磁控管溅镀法形成存储器
82 CN2011101609545 结合油墨印刷与磁性溅镀制造LED灯板用导线的方法
83 CN2011101604452 连续式溅镀设备以及太阳能选择性吸收膜的制造方法
84 CN2011101083173 溅镀靶材检测机构
85 CN2011100992963 再生溅镀靶材及其制作方法
86 CN2011800169264 溅镀装置及溅镀方法
87 CN2011800115211 溅镀装置
88 CN2011100068621 采用溅镀线路的LED灯板及其生产方法
89 CN2011100046088 应用溅镀制造天线的方法
90 CN2010106123914 溅镀装置
91 CN2010106052656 溅镀装置
92 CN2010106006766 溅镀装置
93 CN2010105179679 溅镀用旋转靶材的粘接合成物及利用上述合成物的旋转靶材粘接方法
94 CN2010102966475 溅镀设备
95 CN2010102436074 具有真空溅镀镀层的轴瓦及其生产方法
96 CN2010102436089 一种具有真空溅镀镀层的轴瓦及其生产方法
97 CN201010221980X 溅镀含高蒸气压材料的镀膜的方法与装置
98 CN2010101971692 溅镀装置
99 CN2010101819252 溅镀载具
100 CN2010101770049 混合气体供给系统、溅镀装置及溅镀方法
101 CN2010101693875 溅镀装置
102 CN2010101677571 产品定位溅镀治具
103 CN201010160850X 溅镀装置及溅镀洗靶方法
104 CN2010101610904 溅镀装置
105 CN2010101611061 溅镀装置及溅镀方法
106 CN2010101611076 溅镀装置及溅镀方法
107 CN2010101702520 用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀机及溅镀方法
108 CN201010152918X 磁控溅镀装置
109 CN2010101563566 真空溅镀紫外光固化面漆
110 CN2010800211159 旋转磁铁溅镀装置
111 CN2010101190861 精准定位溅镀机械手及其定位方法
112 CN2010800089424 溅镀装置用交流电源
113 CN2010101075100 精准定位溅镀装置及其定位方法
114 CN2010103004186 溅镀装置
115 CN201010300227X 溅镀装置
116 CN2009103127179 溅镀装置
117 CN2009103119933 真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备
118 CN2009102581145 真空溅镀设备的移动靶装置
119 CN2009801503382 溅镀装置及溅镀方法
120 CN2009103107866 溅镀装置
121 CN200980145737X 无尘室中逆转溅镀涂覆系统进料的方法及装置
122 CN2009102074390 CIGS太阳能光电四元溅镀靶材、其制法、其与靶背板结合方法及其补料方法
123 CN2009102091358 溅镀EMI金属层或外观装饰镀膜于塑料基材的方法
124 CN2009801375651 圆筒形溅镀靶及其制造方法
125 CN2009103068912 溅镀式镀膜装置
126 CN2009103065098 溅镀料架
127 CN2009103062367 真空溅镀设备的进气装置
128 CN2009101685880 利用连续式真空溅镀设备形成工件的防污层的方法
129 CN2009801335847 溅镀薄膜形成装置
130 CN2009103056188 溅镀载具及包括该溅镀载具的溅镀装置
131 CN2009103056205 磁控溅镀装置
132 CN2009103051589 工件真空溅镀方法及装置
133 CN2009103049930 溅镀用磁控装置
134 CN2009101600632 真空溅镀设备的旋转靶装置
135 CN2009101520318 单一出入口溅镀机用于非中心定位工件的连贯式生产方法
136 CN2009101495015 防镀膜影响的外部检出装置及溅镀装置
137 CN2009103031212 溅镀镀膜装置
138 CN2009103024011 溅镀转盘及其应用的溅镀装置
139 CN2009103023339 溅镀式镀膜装置
140 CN2009101365261 陶瓷溅镀靶材组件及其焊合方法
141 CN2009103013445 磁控式溅镀靶及磁控式溅镀系统
142 CN2009103011079 溅镀装置
143 CN200910300581X 溅镀装置
144 CN2009100250580 溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺
145 CN2009100250576 溅镀用晶圆夹表面处理工艺
146 CN2009100065452 磁控溅镀阴极
147 CN2009100089264 再生溅镀靶材及其制作方法
148 CN200880116299X 对三维形状的工件进行的溅镀成膜方法及用于该方法的装置
149 CN200880116429X 溅镀装置及溅镀成膜方法
150 CN2008801048814 溅镀装置
151 CN2008103033711 溅镀治具
152 CN2008101344519 利用金属溅镀与塑料壳体改良达成静电引导装置
153 CN2008100584021 高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置
154 CN200810097817X 一种溅镀方法及溅镀设备
155 CN2008100247013 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
156 CN2008100247028 散热基板上真空溅镀形成导电线路的方法
157 CN2008100247047 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
158 CN2008100247085 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
159 CN200810024709X 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
160 CN2008100247102 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
161 CN2008100247117 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
162 CN2008100256008 散热基板上真空溅镀形成导电线路的方法
163 CN2008100247032 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
164 CN2008800118311 溅镀装置及溅镀方法
165 CN200810301258X 溅镀承载架
166 CN2008100075479 CIS系薄膜的溅镀方法
167 CN200710198968X 磁控溅镀阴极机构
168 CN2007101873626 具有机械手臂的转盘式连续溅镀机
169 CN2007101873630 用于真空薄膜制程的转盘式连续溅镀机
170 CN2007800426411 磁控管溅镀电极以及配置有磁控管溅镀电极的溅镀装置
171 CN2007102022132 溅镀载台
172 CN200780019169X 能够生成具有均一且可改变的方向的磁场的磁体组件及使用该磁体组件的溅镀设备
173 CN2007102015567 溅镀式镀膜装置及镀膜方法
174 CN2007101317786 塑料工件表面真空溅镀结合电泳涂装技术
175 CN2007101313431 塑料工件表面真空溅镀EMI薄膜结合电泳涂装技术
176 CN2007101313484 真空溅镀结合电泳涂装加工微弧氧化工件工艺
177 CN2007101313709 微弧氧化工件真空溅镀EMI薄膜结合电泳涂装加工工艺
178 CN2007101313713 绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的方法
179 CN2007101420838 一种具有多元靶材的溅镀靶
180 CN2007101420842 一种用于真空溅镀装置的辅助导引系统及装置
181 CN2007102012605 溅镀基材固持装置
182 CN2007102011937 溅镀式镀膜装置及镀膜方法
183 CN200710200846X 溅镀用承载装置
184 CN2007800210934 高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材
185 CN2007101105782 含贵金属溅镀靶材的制作方法
186 CN200710200684X 一种用于溅镀式镀膜机台的承载台
187 CN2007101048084 应用溅镀工艺在太阳能电池基板上制作薄膜的方法
188 CN200710104099X 轮圈混色溅镀制程
189 CN2007102006233 一种用于溅镀机台的承载台
190 CN200710200620X 溅镀承载装置
191 CN2007800076564 用于溅镀张力氮化硅膜的系统和方法
192 CN2015104719795 用于溅镀张力氮化硅膜的系统和方法
193 CN2007102001742 溅镀式镀膜装置及方法
194 CN2007800005840 等离子体溅镀中的刻蚀及侧壁选择性
195 CN2007102001672 溅镀装置
196 CN2007102000877 溅镀式镀膜装置
197 CN2007100010037 溅镀靶材的制造方法
198 CN2007800011659 溅镀装置及成膜方法
199 CN2006101476010 抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法及其产品
200 CN2006800305535 偏压晶片时的铝溅镀
201 CN2006800270428 在大型平板上进行溅镀的方法和装置
202 CN2006800013857 溅镀装置、透明导电膜的制造方法
203 CN2006100362690 一种真空溅镀防电磁波干扰膜之不良膜面的处理方法
204 CN2006100609621 溅镀装置及溅镀方法
205 CN2006100817164 清洁溅镀机的方法
206 CN2006100781020 溅镀靶材
207 CN2006800152309 导电性阻障层、尤其是钌钽合金及其溅镀沉积方法
208 CN2006100682881 溅镀靶材的制造方法
209 CN2006100332604 溅镀设备供电系统、电压控制信号形成系统及方法
210 CN2006100329480 一种多功能溅镀系统及溅镀方法
211 CN2005101381995 溅镀靶材牌的电子束焊接
212 CN2005101212520 阳极板及包括所述阳极板的溅镀装置
213 CN2005101209848 塑胶件真空溅镀中提高镀层附着性的方法
214 CN2005800256784 溅射源、溅镀装置、薄膜的制造方法
215 CN2005800166862 对向靶材式溅镀装置
216 CN200510100995X 以真空溅镀在塑胶基材上被覆抗EMI薄膜的方法
217 CN2005101000090 塑料基材上镀覆高遮蔽防电磁干扰薄膜的溅镀方法
218 CN2005100947106 防止被溅镀物品变形的方法
219 CN2005100988248 磁控及非平衡式磁控物理溅镀多层覆合超硬薄膜之方法
220 CN2005100928251 磁控溅镀装置
221 CN2005100908987 用于溅镀镀膜的阳极
222 CN2005100919002 一种磁控及非平衡式磁控物理溅镀ZrCN于微型钻头的方法
223 CN2005100358313 LCP基材防EMI镀膜的溅镀前处理方法
224 CN2005100358309 LCP基材溅镀防EMI镀膜的前处理方法
225 CN2005800012614 溅镀靶材
226 CN2005100342476 溅镀装置
227 CN2005100649111 钽基化合物的陶瓷溅镀靶材及其应用方法和制备方法
228 CN2005100640579 用于高功率溅镀的电源联接器
229 CN2005100050035 铟锡氧化物的溅镀工艺与形成铟锡氧化物层的方法
230 CN2005100040724 用于平面溅镀的二维磁电管扫描
231 CN2007101669037 用于平面溅镀的二维磁电管扫描
232 CN2004800367778 磁电管及溅镀靶间的间距补偿
233 CN2004100574411 盘片溅镀遮罩
234 CN2004100623314 溅镀机台及其溅镀载台
235 CN2004100497858 一种以真空溅镀法制作多层陶瓷电容器的方法
236 CN2004800228991 溅镀靶安装到垫板上的方法和设计
237 CN031237347 溅镀装置及其使用此装置的金属层/金属化合物层的制造方法
238 CN038180790 高PTF溅镀靶和制造方法
239 CN021606048 磁控管溅镀装置和方法
240 CN021435375 阴极溅镀装置
241 CN021368473 自动检测半导体芯片位置的溅镀系统
242 CN021322805 提高溅镀靶使用率的预溅镀方法
243 CN021322368 磁控式摇摆扫瞄型溅镀机
244 CN021303614 溅镀靶及其制造方法
245 CN2005101233300 溅镀靶及其制造方法
246 CN021286892 用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
247 CN021034494 溅镀—薄膜于—塑料制品上的方法及其塑料制品
248 CN011451416 在溅镀蚀刻工艺中监控蚀刻腔体内离子浓度的方法及装置
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