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D0560、抛光液配方发明技术大全
作者:jnxhcy 来源:本站原创 点击:9973 更新:2013-7-2 23:08:06

序号 专利号 名称
1 02142015.7 抛光组合物
2 01806808.1 用于自抛光防污漆料的无金属粘结剂
3 01807432.4 抛光剂和生产平面层的方法
4 02154315.1 磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
5 02116759.1 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
6 02127360.X 抛光组合物及使用它的抛光方法
7 02157402.2 抛光组合物
8 02159810.X 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
9 02160886.5 用于金属的化学机械抛光浆液及利用该浆液制备半导体装置的金属线接触插头的方法
10 02159045.1 用于钌的化学机械抛光的溶液
11 03103346.6 半导体基板的化学机械抛光方法和化学机械抛光用水分散液
12 01809394.9 抛光剂组合物
13 01811268.4 金属CMP用的抛光组合物
14 01811444.X 研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
15 00819223.5 化学机械抛光用研磨剂
16 01812907.2 抛光液组合物
17 01812364.3 用于CMP的含硅烷的抛光组合物
18 02114147.9 铜化学-机械抛光工艺用抛光液
19 02800353.5 抛光剂及基片的抛光方法
20 00819633.8 包含纤维和含金属共聚物的自抛光型海洋防污漆组合物
21 02116761.3 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
22 95116303.5 金属表面抛光液
23 95193129.6 不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法
24 95120179.4 金属表面抛光溶液及抛光工艺
25 97101813.8 抛光组合物
26 96121008.7 抛光剂
27 85107373 一种快速抛光剂
28 87106089 石材研磨或抛光用组合物及其制造方法
29 88107422.5 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
30 87104262.2 铝及铝合金碱性化学抛光溶液
31 89106422.2 高效有色金属抛光膏及制备方法
32 89104530.9 抛光液
33 91101198.6 不锈钢表面化学抛光浴液及方法
34 91101197.8 不锈钢表面化学抛光浴液及方法
35 91104335.7 用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法
36 90107304.0 抛光方法和组合物
37 92100825.2 打磨抛光的砂轮组合物
38 93102414.5 抛光和刨平表面用的组合物和方法
39 92104320.1 无油水基研磨抛光膏
40 92108497.8 溶胶型硅片抛光剂
41 93117574.7 化合物半导体化学抛光腐蚀液
42 93105636.5 一种活性抛光剂及其制备方法
43 93118984.5 固体抛光剂
44 94193257.5 活性抛光组合物
45 94192249.9 改良的抛光组合物和抛光方法
46 97117913.1 用于抛光半导体基材上的金属层的磨料组合物及其用途
47 97116064.3 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
48 97126036.2 抛光组合物
49 97126031.1 抛光剂组合物
50 98110778.8 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法
51 97199945.7 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
52 99107174.3 边抛光组合物
53 99108657.0 抛光组合物
54 98123848.3 pH值缓冲的浆液及其在抛光中的应用
55 98120987.4 用于铜的化学机械抛光(CMP)浆液以及用于集成电路制造的方法
56 98113547.1 白米抛光剂及其制备方法
57 97106050.9 不锈钢抛光液
58 97107665.0 VCD光碟片抛光剂
59 99125836.3 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
60 00100956.7 聚合物作为家具抛光剂的应用
61 99111114.1 抛光组合物
62 98807509.1 半导体基片用的抛光剂
63 98809114.3 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
64 99115749.4 一种化学抛光剂及其使用方法
65 00118032.0 用于机械化学抛光低介电常数聚合物类绝缘材料层的组合物
66 98809580.7 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
67 00114266.6 车用多功能一体化清洁抛光剂的制备及使用方法
68 00117632.3 在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
69 99101890.7 抛光和刨平表面用的组合物和方法
70 99118604.4 抛光组合物
71 99111787.5 输送基片机械抛光研磨悬浮液的设备和方法
72 98119024.3 一种无腐蚀脉冲电化学抛光溶液及工艺
73 98112740.1 一种防潮白抛光膏
74 99120301.1 化学机械抛光中用于减少有图案金属凹陷的组合物和方法
75 99108532.9 抛光组合物和表面处理组合物
76 00128846.6 抛光组合物
77 00131713.X 抛光组合物
78 00131712.1 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
79 99802868.1 光学抛光制剂
80 00130570.0 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
81 00109525.0 用于化学机械抛光的组合物
82 01104631.7 用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物
83 01103041.0 抛光研磨用的研磨油组合物
84 01111755.9 混合抛光膏剂
85 01104764.X 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
86 01116934.6 抛光组合物
87 01122164.X 用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法
88 01103203.0 抛光组合物
89 99117409.7 铝型材抛光液无能耗简易回收法
90 00133674.6 纳米级抛光液及其制备方法
91 01104762.3 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
92 01121960.2 抛光组合物和抛光方法
93 00803144.4 流体喷布式固定研磨剂抛光垫
94 01122298.0 抛光组合物及使用它的抛光方法
95 01141166.X 抛光剂组合物
96 01141167.8 抛光剂组合物
97 01141168.6 抛光剂组合物
98 00808137.9 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
99 00809453.5 用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法
100 01142566.0 用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏
101 01142936.4 抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
102 01143343.4 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
103 01143362.0 用于SiO<sub>2</sub>隔离层化学-机械抛光的酸性抛光膏
104 00120635.4 含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
105 01800919.0 抛光组合物及用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片
106 01800964.6 磁盘基板抛光用组合物及其生产方法
107 01801018.0 抛光剂及其制造方法以及抛光方法
108 02103380.3 抛光组合物及使用它的抛光方法
109 00809281.8 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
110 00811608.3 含有含硅共聚物和纤维的自抛光性海洋防污漆组合物
111 00813314.X 化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
112 02105963.2 液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置
113 02132423.9 一种浮法抛光液膜厚度测量装置
114 02118389.9 含水涂料组合物和地板抛光组合物
115 02117756.2 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
116 200710018973.8 磁流变抛光液及其制备方法
117 200680008151.5 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
118 200610116122.2 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
119 200610107031.2 铜制品抛光剂的制造方法
120 200610116746.4 用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
121 200610116747.9 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
122 200710188401.4 非平衡液态复合脉冲等离子抛光方法
123 200710191267.3 金属抛光剂及其制备方法
124 200710194162.3 抛光组合物
125 200680017687.3 一体式抛光剂配送器及擦抹器
126 200680017799.9 用于含有金属离子氧化剂的化学机械抛光组合物中的二羟基烯醇化合物
127 200710199425.X 抛光组合物
128 200710145660.9 一种用于化学机械抛光的淤浆组合物及其前体组合物
129 200610119335.0 非离子型聚合物在自停止多晶硅抛光液制备及使用中的应用
130 200710180578.X 便于清洗的轴承内套抛光油添加剂
131 200680023153.1 用于铝的化学机械抛光的浆液
132 200680023347.1 用于抛光高阶梯高度氧化层的自动停止研磨剂组合物
133 200610148816.4 抛光液传输设备
134 200710199423.0 抛光组合物
135 200710300348.2 一种数控抛光用非接触式轮状喷液磨头
136 200710036674.7 一种低介电材料抛光液
137 200680026613.6 包含具有聚氨酯基体的互渗液化烯类单体网状物的抛光垫
138 200810004625.X 金属抛光液和使用该金属抛光液的抛光方法
139 200810020779.8 高效高精度蓝宝石抛光液及其制备方法
140 200680027293.6 铜纯化的化学机械抛光后清洗组合物及使用方法
141 200810005426.0 具有用于降低浆液消耗的凹槽的抛光垫
142 200710001877.2 抛光组合物和抛光方法
143 200810010596.8 一种化学机械抛光半导体晶片用的抛光液
144 200810005807.9 金属抛光组合物和使用它的化学机械抛光方法
145 200810050506.8 一种数控抛光用气封抽液非接触式喷液磨头
146 200710067353.3 抛光液恒温输送装置
147 200810030896.2 磁流变抛光液流变性测试装置
148 200810030901.X 可长时稳定抛光液性能的磁流变抛光液循环装置
149 200810030904.3 用于光学加工的水基磁流变抛光液及其制备方法
150 200680031675.6 抛光组合物
151 200680031676.0 抛光组合物
152 200610117669.4 一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
153 200710148276.4 用于电解抛光的电解液以及电解抛光方法
154 200610136496.0 液压抛光机
155 200410022936.0 一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
156 02819416.0 抛光组合物
157 200410062868.0 抛光组合物
158 200410068895.9 玻化抛光地板砖防污剂及其制备方法
159 200410073845.X 玻化抛光地板砖清洗剂及其制备方法
160 03151420.0 用于铜布线化学机械抛光的清洗液提供装置
161 200410061103.5 自动供液抛光机
162 200410079743.9 用于半导体晶片的抛光组合物
163 200410055841.9 用于抛光半导体层的组合物
164 200410087078.8 在铜CMP中采用不包含氧化剂的抛光流体的第二步骤抛光方法
165 200410079102.3 抛光组合物
166 200310108609.2 水基地板抛光剂用乳胶
167 200410066674.8 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
168 200410011819.4 高速阻挡层抛光组合物
169 200410083441.9 抛光组合物
170 200310108751.7 磷酸脂改性的地板抛光剂用乳胶
171 200310105203.9 一种化学机械抛光液
172 03802695.3 钨抛光溶液
173 200410092531.4 抛光组合物和抛光方法
174 200410084490.4 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
175 03804313.0 抛光组合物
176 200410096391.8 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
177 200410097812.9 抛光组合物和抛光方法
178 03805084.6 抛光组合物和用于形成配线结构的方法
179 200410104677.6 用于铜的受控抛光的组合物和方法
180 200410082137.2 用于铜的低下压力抛光的组合物和方法
181 200410092968.8 用于抛光铜的组合物和方法
182 200410104484.0 抛光组合物和抛光方法
183 200410093370.0 高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液
184 200510023377.X 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
185 200510052407.X 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
186 200510052880.8 抛光组合物和抛光方法
187 03816146.X 金属抛光组合物,使用组合物进行抛光的方法以及使用抛光方法来生产晶片的方法
188 200410075899.X 抛光液和抛光有色金属材料的方法
189 03817168.6 含导电聚合物的抛光组合物
190 200410017002.8 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
191 200510059249.0 抛光用组合物及抛光方法
192 200510059251.8 抛光用组合物及抛光方法
193 200510059252.2 抛光组合物及抛光方法
194 03817386.7 地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物
195 03148693.2 铂化学机械抛光用的溶液
196 01817877.4 抛光工具及制造所述工具的组合物
197 01818866.4 包含粒状聚合物和交联聚合物粘结剂的抛光垫
198 02131871.9 化学抛光液
199 03127654.7 硅藻土磨料抛光剂的制备方法
200 02804506.8 抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
201 03164917.3 共聚物水乳液和多价金属化合物之间的反应产物以及含有该产物的抛光组合物
202 03127205.3 抛光组合物
203 02151958.7 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
204 02810032.8 化学机械抛光组合物及其相关方法
205 03100995.6 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
206 200310124640.5 抛光液组合物
207 02157322.0 一种石材镜面效果抛光膏的制作方法
208 02803940.8 含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫
209 200410007656.2 抛光组合物
210 03119904.6 液晶显示模块抛光装置
211 200410006812.3 化学机械抛光浆液
212 02814368.X 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物抛光物体的方法
213 03800709.6 抛光方法及研磨液
214 02814331.0 改变浆料中氧化剂的浓度进行化学机械抛光(CMP)的方法
215 03114350.4 一种纳米级蓝宝石衬底的加工方法及其专用抛光液
216 01817367.5 用于倒装式结合在有焊料凸块晶片上预底填料的溶剂辅助抛光
217 01816826.4 抛光包括铜和钨的半导体器件结构中使用的浆液与固定磨料型抛光垫以及抛光方法
218 200410034215.1 抛光组合物
219 02815444.4 用于金属布线的化学机械抛光的浆液组合物
220 02816911.5 适用于自抛光防污漆的具有低含量可水解单体的粘结剂
221 200410043511.8 抛光组合物
222 200410043512.2 抛光组合物
223 02818538.2 稀土盐/氧化剂为基础的化学-机械抛光方法
224 200610001059.8 一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液
225 200610033127.9 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
226 200410081677.9 抛光组合物和抛光方法
227 200510067350.0 阻挡层抛光溶液
228 200510078812.9 用于控制半导体晶片中金属互连去除速率的抛光组合物
229 200510035085.8 交联型环保汽车抛光剂的产业化生产
230 200380101871.2 化学机械抛光铜表面用的腐蚀延迟抛光浆液
231 200410096662.X 抛光砖防污剂的制膜设备及方法
232 200380102127.4 用于抛光金属的组合物、金属层的抛光方法以及生产晶片的方法
233 200380102722.8 抛光组合物和清洗组合物
234 03825534.0 用于硅晶片二次抛光的淤浆组合物
235 200510082370.5 化学机械抛光组合物及有关的方法
236 200510082371.X 化学机械抛光组合物及有关的方法
237 200380104676.5 双液体泡沫家具抛光漆
238 200380105203.7 使用磺化两性试剂的铜化学机械抛光溶液
239 200510071796.0 用于化学机械平坦化的多步抛光液
240 200410054780.4 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法
241 200380105924.8 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用的组合物
242 200380105929.0 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用组合物
243 200410011215.X 一种数控抛光用非接触式喷液磨头
244 200510088470.9 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
245 200510026996.4 集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
246 200380108506.4 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
247 200510096619.8 浆料组合物、制备浆料组合物的方法以及使用浆料组合物抛光物体的方法
248 200480002648.7 可选择性阻隔金属的抛光液
249 200510099560.8 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
250 200510099561.2 抛光组合物和使用该抛光组合物的抛光方法
251 200510108259.9 抛光剂及基片的抛光方法
252 200480003457.2 混合研磨剂抛光组合物及其使用方法
253 200410066515.8 用于硅上液晶器件的铝化学机械抛光回蚀
254 200480005222.7 包括磺酸的CMP组合物和用于抛光贵金属的方法
255 200510104170.5 抛光组合物和使用该组合物生产布线结构的方法
256 200410080080.2 钛镍合金电化学抛光液
257 200510113455.5 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
258 200510118816.5 抛光组合物
259 200510128707.1 不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法
260 200510129056.8 抛光用组合物及使用该组合物的抛光方法
261 200480012603.8 能够补偿纳米形貌效应的化学机械抛光用浆液组合物、以及利用其的半导体元件的表面平坦化方法
262 200480012930.3 用于铜和相关材料的改进的化学机械抛光组合物及其使用方法
263 200480013195.8 抛光组合物和抛光方法
264 200510116191.9 用于选择性抛光氮化硅层的组合物以及使用该组合物的抛光方法
265 200510136133.2 用来减少对半导体晶片侵蚀的抛光组合物
266 200610037921.0 液体喷射抛光的方法
267 200480012926.7 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
268 200510062405.9 抛光用组合物及其抛光方法
269 200510062406.3 抛光用组合物及抛光方法
270 200610059630.1 化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
271 200610059635.4 用来化学机械抛光薄膜和介电材料的组合物和方法
272 200480022595.5 用于抛光导电材料的抛光组合物和方法
273 200480024448.1 抛光用组合物及使用该组合物的抛光方法
274 200610013976.8 用于大规模集成电路多层布线中钨插塞的抛光液
275 200610013977.2 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液
276 200610013978.7 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液
277 200610013979.1 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
278 200610013980.4 用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法
279 200610014029.0 半导体锑化铟化学机械抛光液
280 200610013981.9 蓝宝石衬底材料抛光液及其制备方法
281 200510071421.4 抛光组合物及抛光制品
282 200610084745.6 抛光组合物
283 200610014297.2 硅单晶衬底材料抛光液及其制备方法
284 200610014299.1 电子玻璃的纳米SiO<sub>2</sub>磨料抛光液
285 200610035936.3 抛光砖专用化学抛光剂
286 200610014325.0 超大规模集成电路铝布线抛光液
287 200610014296.8 用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液
288 200480025793.7 化学-机械抛光组合物及其使用方法
289 200510034820.3 一种抛光剂
290 200480017729.4 用于高效清洁/抛光半导体晶片的组合物和方法
291 200610083480.8 具有增强的抛光均匀性的二氧化铈浆液组合物
292 200610047159.4 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
293 200610014298.7 超大规模集成电路多层布线SiO<sub>2</sub>介质的纳米SiO<sub>2</sub>磨料抛光液
294 200480036590.8 用来减少浆液回流的化学机械抛光法
295 200510027990.9 化学机械抛光液
296 200610108551.5 抛光用组合物及抛光方法
297 200510027988.1 化学机械抛光液及其用途
298 200480040377.4 抛光组合物和抛光方法
299 200480040401.4 抛光组合物和抛光方法
300 200510035557.X 抛光液
301 200480041087.1 用于抛光衬底的方法和组合物
302 200610030551.8 金属化学机械抛光的抛光液原位批处理方法及所使用的装置
303 200610086232.9 高精度复合抛光液及其生产方法、用途
304 200610086233.3 高精度抛光液及其生产方法、用途
305 200610126796.0 抛光组合物及抛光方法
306 200610151796.6 可除去聚合物阻挡层的抛光浆液
307 200510037297.X 一种用于抛光砖成膜的纳米黏土改性硅化合物组合物及制备方法
308 200580009637.6 化学机械抛光组合物及使用其的方法
309 200580009957.1 用于半导体浅沟隔离加工的化学机械抛光浆料组合物
310 200610135919.7 抛光用组合物及抛光方法
311 200610141458.4 抛光液体
312 200610142160.5 抛光组合物和抛光方法
313 200610139615.8 水性抛光液和化学机械抛光方法
314 200510030024.2 水基金刚石抛光液及其制备方法
315 200610087629.X 一种碱性硅晶片抛光液
316 200510109406.4 电解抛光液和其平坦化金属层的方法
317 200580017301.4 电化学-机械抛光组合物及使用其的方法
318 200610077360.7 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
319 200610105133.0 抛光液以及抛光Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体晶片的方法
320 200510086960.5 一种精密抛光晶片用有机物清洗液
321 200610169030.0 用来抛光半导体层的组合物
322 200510111676.9 化学机械抛光废液分流收集装置及其收集方法
323 200580025563.5 用于贵金属的抛光组合物
324 200710008374.8 阻挡层用抛光液
325 200710006190.8 用来化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
326 200710019741.4 碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法
327 200710037163.7 一种蓝宝石衬底化学机械抛光浆液
328 200710005150.1 多组分阻挡层抛光液
329 200580031762.7 CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
330 200710092346.9 抛光剂
331 200580032714.X CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
332 200710051871.6 一种高纯度纳米金刚石抛光液及其制备方法
333 200710039894.5 一种低光泽抛光剂组合物及其制备方法
334 200580034854.0 用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物
335 200610066889.9 半导体晶片精密化学机械抛光剂
336 200710022290.X 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
337 200710052198.8 一种高纯度纳米金刚石抛光膏及其制备方法
338 200580036004.4 包含表面活性剂的化学机械抛光(CMP)组合物
339 200710087714.0 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
340 200710099942.X H62黄铜抛光液及其制备方法
341 200580040887.6 用于高的氮化硅对氧化硅去除速率比率的抛光组合物及方法
342 200710028432.3 一种金属结合剂金刚石抛光块及其制备方法
343 200580041069.8 用于化学机械抛光浆料的辅助剂
344 200710055788.6 抛光液自动滴液装置
345 200580042525.0 抛光溶液
346 200610026938.6 用于精细表面平整处理的抛光液及其使用方法
347 200610087601.6 一种用于锗晶片的抛光液及其制备方法
348 200610087602.0 一种用于砷化镓晶片的抛光液及其制备方法
349 200710106575.1 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
350 200710109894.8 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
351 200610014412.6 一种金属抛光液及其制备方法
352 200580036187.X 用于化学机械抛光的系统、方法与研磨液
353 200610014590.9 一种用于玻璃材料的抛光液及其制备方法
354 200610014594.7 一种钨抛光液及其制备方法
355 200610014597.0 一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法
356 200610014604.7 一种用于硬盘基片的抛光液及其制备方法
357 200610014596.6 一种除藻型抛光液
358 200610014592.8 一种防冻型抛光液及其制备方法
359 200680002121.3 用于化学机械抛光的抛光浆液和方法
360 200610029268.3 用于抛光低介电材料的抛光液
361 200710025527.X 有色金属材料表面清洁抛光膏及其制备方法
362 200710143759.5 抛光用组合物以及抛光方法
363 200580047087.7 用于电-化学-机械抛光的方法和组合物
364 200610030457.2 用于抛光低介电材料的抛光液
365 200610030459.1 一种含有混合磨料的低介电材料抛光液
366 200710146854.0 抛光用组合物以及抛光方法
367 200710146855.5 抛光用组合物和抛光方法
368 200810009627.8 抛光液
369 200810010921.0 半导体硅片化学机械抛光用清洗液
370 200810031134.4 低粘度稳定的非水基磁流变抛光液及其配制方法
371 200680033516.X 无研磨剂的抛光系统
372 200680034036.5 基于铈土的玻璃抛光组合物及其制备方法
373 200810087355.3 金属抛光液和抛光方法
374 200710039245.5 多晶硅化学机械抛光液
375 200810011689.2 晶圆抛光用清洗剂
376 200680038577.5 氧化铈浆料、氧化铈抛光液以及使用其抛光衬底的方法
377 200580051984.5 用于对多晶硅膜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及其制备方法
378 200810012181.4 用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法
379 200810040033.3 纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法
380 200810095889.0 碱性阻挡层抛光浆液
381 200710022356.5 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法
382 200680043840.X 用于钽的化学机械抛光的组合物及方法
383 200680044775.2 增加含过氧化氢的化学机械抛光浆料使用寿命的组合物及方法
384 200810040011.7 用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物
385 200680046228.8 用于控制抛光选择性的辅助剂以及包含该辅助剂的化学机械抛光浆料
386 200680046413.7 用于控制抛光选择性的辅助剂以及包含该辅助剂的化学机械抛光浆料
387 200810099735.9 研磨清洁剂、其制备方法及使用其进行抛光的方法
388 200810128877.3 抛光液及使用该抛光液的抛光方法
389 200810146155.0 CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
390 200810117832.6 一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液
391 200810085567.8 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
392 200810085569.7 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
393 200680048459.2 清洁和/或抛光组合物及其使用方法
394 200810120590.6 用于低碳钢纳米压入试样的抛光液
395 200710025303.9 铝合金用抛光液
396 200710025304.3 一种镁合金用抛光液
397 200680036402.0 用于对金属膜进行平坦化的高通量化学机械抛光组合物
398 200710044586.1 用于抛光半导体封盖层的抛光液
399 200810131292.7 选择性阻挡层抛光浆液
400 200810131291.2 用来除去聚合物阻挡层的抛光浆液
401 200810150942.2 一种杂粮人造米的抛光剂及抛光工艺
402 200710026159.0 铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液
403 200710026167.5 锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液
404 200710058743.4 微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液
405 200710058742.X 铝及铝合金材料抛光液
406 200780002906.5 用于相变合金的化学机械抛光的组合物及方法
407 200780002916.9 用于氧化铟锡表面的化学机械抛光的组合物及方法
408 200480012929.0 用于步骤Ⅱ的铜衬里和其他相关材料的化学机械抛光组合物及其使用方法
409 200810201175.3 硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液
410 200710055082.X 抛光粘片用液态蜡及其制备方法和抛光粘片的工艺
411 200710045691.7 一种液晶显示器抛光粉的生产方法
412 200710132163.5 不锈钢的化学抛光液
413 200780006548.5 用于抛光氮化硅的组合物及方法
414 200780006685.9 含碘酸盐的化学机械抛光组合物及方法
415 200810226440.3 一种抛光液用氧化铝粉的制备方法
416 200810226466.8 可循环使用的抛光液
417 200810130951.5 抛光液和抛光方法
418 200810149126.X 抛光液
419 200810165786.7 抛光液及使用该抛光液的抛光方法
420 200710047004.5 一种抛光低介电材料的抛光液
421 200710047468.6 一种化学机械抛光液
422 200710047465.2 一种金属铜的抛光液
423 200710047466.7 一种化学机械抛光液
424 200710047467.1 一种金属铜的抛光液
425 200810227079.6 一种磨料抛光剂的原料及其制备方法
426 200780015036.5 含聚醚胺的抛光组合物
427 200780016565.7 氧化稳定的化学机械抛光组合物及方法
428 200780016044.1 用于半导体材料的化学机械抛光的组合物及方法
429 200710170809.9 一种多晶硅化学机械抛光液
430 200710094394.1 提高化学机械抛光研磨液使用率的系统及方法
431 200710171602.3 一种化学机械抛光液
432 200710171975.0 一种化学机械抛光液的制备工艺
433 200810247567.3 一种用于硅晶片抛光的抛光组合物
434 200710171601.9 一种化学机械抛光液
435 200710171599.5 一种化学机械抛光液
436 200710171600.4 一种化学机械抛光液
437 200780019823.7 液体抛光组合物和套件
438 200710094423.4 化学机械抛光研磨液的供料装置及研磨液处理方法
439 200710172357.8 一种用于铜制程的化学机械抛光液
440 200710172362.9 一种用于铜制程的化学机械抛光液
441 200710172365.2 一种化学机械抛光液
442 200710172367.1 一种化学机械抛光液
443 200710172363.3 一种化学机械抛光液
444 200710172366.7 一种化学机械抛光液
445 200910042436.6 家具用铝型材三酸抛光整平抑雾剂及其抛光方法
446 200710172711.7 一种阻挡层化学机械抛光液
447 200710172712.1 一种化学机械抛光液
448 200710172713.6 一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液
449 200910077036.9 一种用于硬盘盘基片的抛光组合物
450 200710186121.X 蓝宝石衬底抛光液及其制作方法
451 200910077080.X 一种用于砷化镓晶片的抛光组合物及其制备方法
452 200910073676.2 一种铝制品化学抛光液及其抛光方法
453 200910010268.2 一种用于软脆易潮解晶体的非水基无磨料抛光液
454 200780027184.9 用于抛光低介电材料的抛光液
455 200780026767.X 用于抛光氮化硅材料的组合物及方法
456 200780027104.X 金化学机械抛光组合物及方法
457 200780027114.3 用于介电膜的提高速率的化学机械抛光组合物
458 200780027182.X 用于抛光低介电材料的抛光液
459 200810033115.5 一种化学机械抛光液
460 200780019104.5 用于抛光氧化铝及氧氮化铝基材的组合物、方法及系统
461 200780028002.X 包含封装在聚合物外壳中的液体有机材料芯体的化学机械抛光垫及其制造方法
462 200810033260.3 一种化学机械抛光液
463 200780030186.3 用于形成抛光浆料的溶液、抛光浆料及相关方法
464 200780031740.X 用于半导体材料的化学机械抛光的组合物及方法
465 200780031134.8 在电化学抛光应用中用于再生电解液的方法
466 200680007081.1 抛光蓝宝石表面的组合物和方法
467 200680028191.6 整合的化学机械抛光组合物及单台板处理方法
468 200780033428.4 含有鎓的化学机械抛光组合物及使用该组合物的方法
469 200780032800.X 利用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法
470 200780033617.1 用于半导体集成电路装置的抛光剂、抛光方法以及半导体集成电路装置的制造方法
471 200780034048.2 半导体集成电路装置用抛光剂、抛光方法、以及制造半导体集成电路装置的方法
472 200810065423.6 一种K金首饰无氰电解抛光液及其电解抛光方法
473 200780037633.8 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途
474 200910004747.3 低污染抛光组合物
475 200780038453.1 玻璃抛光组合物及方法
476 200780029108.1 用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
477 200680010963.3 浆料组合物和用于抛光有机聚合物基的眼用基体的方法
478 200780041887.7 用于低介电常数的介电材料的化学机械抛光的组合物及方法
479 200780043352.3 含沸石的用于铜的化学机械抛光组合物
480 200910031539.2 高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法
481 200810035593.X 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
482 200810035594.4 一种化学机械抛光液
483 200780045436.0 用于抛光镶嵌结构中的铝/铜及钛的组合物
484 200780046128.X 抛光剂和抛光手套
485 200780029083.5 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
486 200780044724.4 非离子型聚合物在自停止多晶硅抛光液制备及使用中的应用
487 200910011219.0 金属抛光剂
488 200780037469.0 一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
489 200680056303.9 化学机械抛光浆料组合物、及其制备方法和应用方法
490 200780041666.X 湿敏表面的化学机械抛光和为此的组合物
491 200780014796.4 用于电化学抛光金属制品的电解质溶液
492 200910054391.4 SiSb基相变材料用化学机械抛光液
493 200810067547.8 一种镁合金的电解抛光液及其表面抛光处理方法
494 200780050589.4 用于抛光由二氧化硅制成的表面的组合物
495 200810067813.7 电抛光用电解液配方及电解方法
496 200910054796.8 化学机械抛光用纳米氧化铈浆液及其制备方法
497 200680009066.0 含有多功能活化剂的新的抛光浆和无磨料溶液
498 200910041457.6 水性抛光砖防污液
499 200910112364.8 用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂
500 200780029104.3 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
501 200780029104.3 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
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