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D1329、靶材制作工艺靶材制作方法及靶材制作专利技术专辑
作者:站长 来源:本站原创 点击:10650 更新:2013-5-28 15:10:17
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2   02146604.1    溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法
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4   03118371.9    铟锡氧化物靶材的制备方法
5   02800718.2    溅射靶材
6   03107912.1    Ag合金膜以及Ag合金膜形成用喷溅靶材
7   02801192.9    用于形成栅氧化物膜的硅化铪靶材及其制备方法
8   00816972.1    制备溅射靶材料的方法
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10   97108322.3    氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法
11   98111996.4    一种磁光盘记录介质靶材制造方法
12   99113965.8    含混合稀土元素高阻溅射靶材
13   00129797.X    用于制备透明导电薄膜的锌铝氧化物靶材
14   00801709.3    铝合金薄膜及靶材和使用它的薄膜形成方法
15   00136711.0    高密度铟锡氧化物靶材及其制造方法
16   01128865.5    磁光记录靶材及其生产工艺
17   01134646.9    以气喷粉末制作铝合金溅镀靶材的方法
18   01104414.4    金属溅镀靶材的制造方法
19   02118135.7    铝系合金靶材的制造方法及用该方法得到的铝系合金靶材
20   02115767.7    氮化碳超硬薄膜镀覆靶材及其制备方法
21   200710180108.3    Co—Fe—Zr系合金溅射靶材及其制造方法
22   200710176457.8    一种LaGaO3基固体电解质靶材的制备方法
23   200610114349.3    一种金属靶材与靶托的连接方法
24   200610114350.6    金属靶材与靶托的连接方法
25   200710048001.3    制取透明功能薄膜的三元金属氧化物陶瓷靶材的制备工艺
26   200710178957.5    一种Li掺杂ZnO陶瓷靶材制备工艺
27   200580050014.3    一种以适配体作为分子识别元件的碳纳米管晶体管生物传感器及其用于检测靶材料的方法
28   200710304076.3    导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法
29   200710303869.3    一种钛铝合金靶材的粉末冶金制备方法
30   200710001003.7    溅镀靶材的制造方法
31   200710078740.7    靶材以及该靶材所制造的薄膜
32   200410090068.X    光信息记录用铝合金反射膜及其形成用靶材、记录介质
33   200410090057.1    金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法
34   200410066585.3    合金靶材磁控溅射法制备CoSi2薄膜的方法
35   200310105218.5    一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶
36   200310124552.5    一种用于制作磁性直流磁控溅射钴靶材的方法
37   200410083416.0    具有改进表面结构的溅射靶材
38   200510009585.4    制备Mo合金制靶材料的方法
39   200510059476.3    溅射靶材料及其生产方法
40   200510066653.0    氧化物烧结体、溅射靶材、透明导电性薄膜及其制造方法
41   200510066665.3    半反射膜或反射膜,光学信息记录介质和溅射靶材
42   200410050877.8    溅射金刚石靶材及其制造方法
43   200510097876.3    用于改进的磁性层的溅射靶材料
44   03826123.5    光记录介质的反射层形成用银合金溅射靶材
45   200480008611.5    采用钛与铝材料的混合物涂覆的衬底,制备该衬底的方法和钛与铝金属的阴极靶材
46   200580000338.6    高耐热性铝合金配线材料和靶材
47   200510064911.1    钽基化合物的陶瓷溅镀靶材及其应用方法和制备方法
48   200610039720.4    静电纺丝法制备低密度多孔二氧化锡纳米纤维激光靶材料
49   200480028627.2    铝类靶材及其制造方法
50   200480027718.4    银合金、其溅射靶材料及其薄膜
51   200480029890.3    溅射靶材
52   200510106397.3    具有互补斜边以于其间形成倾斜间隙的多靶材牌
53   200580001261.4    溅镀靶材
54   200510138199.5    溅镀靶材牌的电子束焊接
55   200610111222.6    绝缘性靶材及其制造方法、导电性复合氧化膜及设备
56   200610112283.4    绝缘性靶材及其制造方法、绝缘性复合氧化膜及装置
57   200610053716.3    一种制备溅射靶材料的方法
58   200510099699.2    导电薄膜或其保护层用的合金靶材及其制造方法
59   200610096720.8    多层膜金属化的靶材
60   200610053213.6    一种制造溅射靶材的模锻工艺及其模锻挤压模具
61   200610116088.9    利用粉末状靶材制备碲化铋薄膜的单靶溅射方法
62   200510109055.7    大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法
63   200580016686.2    对向靶材式溅镀装置
64   200480043213.7    靶材料及其在溅射过程中的应用
65   200610152334.6    可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料
66   200610145254.8    用于溅射腔室的靶材和工艺套件组件
67   200580023674.2    溅射靶用靶材的制造方法
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69   200610151165.4    一种含有掺杂剂元素的石墨靶材的制备方法
70   200610136948.5    垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法
71   200580027402.X    激光等离子EUV光源、靶材构件、胶带构件、靶材构件的制造方法、靶材的提供方法以及EUV曝光装置
72   200610068288.1    溅镀靶材的制造方法
73   200580035605.3    一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
74   200580035587.9    一种用于可转动靶材溅射设备的端块
75   200710091791.3    软磁性靶材
76   200610078102.0    溅镀靶材
77   200710126640.7    Fe-Co系靶材及其制造方法
78   200610136694.7    用于衬底处理室的处理配件和靶材
79   02293460.X    采用涡流加热靶材的共蒸发制备薄膜的装置
80   02293462.6    利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置
81   02293461.8    采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置
82   200720149143.4    可延长靶材使用寿命的平面磁控溅射靶
83   200420011041.2    溅射式镀膜机用靶材结构
84   200520071314.7    真空离子溅镀靶材
85   200520114360.0    一种多元素溅射靶材结构
86   200520031316.3    真空镀膜机用成型镀膜靶材
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109   200810058402.1    高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置
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111   200680038538.5    于激光处理期间的即时的靶材表面轮廓追踪
112   200810031749.7    一种制备超细晶粒高纯度金属镍靶材的方法
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129   200810232471.X    一种贵金属靶材的修复方法
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131   200580017385.1    一种由具有不同输出性能特征的激光器提供质量一致的靶材料去除的方法
132   200810236683.5    BiFeO3靶材及薄膜的制备方法
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135   200680054804.3    反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
136   200780020719.X    透明导电膜及其制造方法以及用于其制造的溅射靶材
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138   200680054819.X    反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
139   200680054809.6    反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
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147   200910043144.4    一种钛铝合金靶材快速热压烧结成型工艺
148   200910127156.5    靶材结构的制作方法
149   200910130847.0    靶材与背板的焊接结构及方法
150   200880000238.7    Al-Ni-B系合金溅射靶材
151   200780044289.5    显示装置用Al合金膜、显示装置以及溅射靶材
152   200910127247.9    靶材与背板的焊接方法
153   200910127248.3    靶材与背板的焊接方法
154   200910127245.X    靶材结构及其制作方法
155   200910127246.4    靶材组件的制作方法
156   200910127249.8    靶材与背板的焊接方法
157   200810010809.7    一种用于磁控溅射的高纯镍靶材
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167   200910140216.7    靶材的制作方法
168   200910139742.1    铜靶材表面的处理方法
169   200910139740.2    钛靶材表面的处理方法
170   200910012356.6    一种彩色交流等离子体显示器用烧结体靶材成型用颗粒的混料方法
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172   200910304873.0    一种CIGS粉末、靶材、薄膜及其制备方法
173   200910139741.7    铝靶材表面的处理方法
174   200910151152.0    铝靶材的加工方法
175   200910151153.5    钛靶材的加工方法
176   200910165364.4    铜靶材的加工方法
177   200910165365.9    铜靶材的加工方法
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179   200910164856.1    靶材热处理方法
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185   200910148983.2    靶材的检测方法
186   200910148985.1    靶材的检测方法
187   200910184782.8    一种多靶材X光管
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189   200910166333.0    大尺寸靶材组件的焊接方法
190   200910140415.8    靶材组件的制作方法
191   200910140418.1    靶材组件的制作方法
192   200910140417.7    靶材与背板的焊接结构及方法
193   200910140416.2    靶材与背板的焊接方法
194   200910135279.3    靶材热处理方法
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214   200910208835.5    靶材金相组织的显示方法
215   200910148987.0    靶材的检测方法
216   200910211713.1    溅射靶材的表面处理方法
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225   201010013545.8    一种高纯度钛靶材的制备工艺
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228   200910242942.X    一种大面积靶材与背板的快速焊接方法
229   200810204401.3    一种溅射靶材的制造方法
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321   201020566063.0    靶材装置
322   201020245270.6    一种安全核废料嬗变靶材
323   201020262992.2    靶材结构及其溅镀设备
324   201020589711.4    靶材生产用夹具
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